2008年06月30日

二回戦

昨日、二回戦が終了しました。

それにしても、またすごい問題でした。
去年は、特許・実案で、問題が2枚にわたる長文でびびらされましたが、
今年は、3枚。さらにバージョンアップしてました。

意匠は、まあ通常の問題でしょうか。

商標は、大問1題と思いきや、小問7題用意されてました。

各科目とも、問題数から考えて、すべてきっちり答えてたら、
到底最後までたどり着けそうにないです。
最初から最後まで、ある程度の記載で、
端的かつ的確に答えていかなければならない問題だったのでしょう。

問題を見た瞬間にそう思ったのですが、
やはり本番では、自分が気づいて点になりそうな論点は、
どうしても書いてしまいたくなるもの。
それを書いて小さい点をもらうより、最後まで満遍なく書いて
満遍なく点をもらうほうが最終的な点がよくなるのは頭では
分かっているのですがね。
あの緊張感では、自分の意思を自制するのは難しいものです。

それでもなんとか全科目へとへとになりながら
最後までたどり着けたので、去年からの成長ですかね。

それにしてもほんと疲れました。
全ての科目で、試験中投げ出して出て行きたくなりました。
まあなんとか最後の一線は越えずにやり切れましたけど。
となりの兄ちゃんはその最後の一線を越えてしまったんでしょうね、
途中退室してました。

今思い返せば、こう書けばよかった、これは書かない方が・・・
なんてことが切りなくでてきますが、これは皆おなじでしょう。
少なくとも去年より成長した今年の成果は出せたと思うので、
自分としては納得してます。
まあ受かっているか、また来年かは神のみぞ知るです。

それにしても、今年のような問題を出されると、
来年以降の勉強は、今までのような方法ではダメなんでしょうね。
考えさせられます。

以上、報告でした。

三回戦にすすめますように!!


posted by NAO at 17:59| Comment(0) | TrackBack(0) | 弁理士試験 | このブログの読者になる | 更新情報をチェックする
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